1. Identificação | |
Tipo de Referência | Artigo em Evento (Conference Proceedings) |
Site | mtc-m16.sid.inpe.br |
Código do Detentor | isadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S |
Repositório | sid.inpe.br/mtc-m16@80/2006/07.31.17.37 |
Repositório de Metadados | sid.inpe.br/mtc-m16@80/2006/07.31.17.37.01 |
Última Atualização dos Metadados | 2018:06.05.01.16.53 (UTC) administrator |
Chave Secundária | INPE--PRE/ |
Chave de Citação | CapoteTraSanCorBon:2006:AdACCo |
Título | Adherent a-C:H coating using PECVD technique |
Ano | 2006 |
Data de Acesso | 18 maio 2024 |
Tipo Secundário | PRE CN |
|
2. Contextualização | |
Autor | 1 Capote, Gil 2 Trava-Airoldi, Vladimir Jesus 3 Santos, Lúcia Vieira 4 Coray, Evaldo José 5 Bonetti, Luís Francisco |
Grupo | 1 LAS-INPE-MCT-BR 2 LAS-INPE-MCT-BR 3 LAS-INPE-MCT-BR 4 LAS-INPE-MCT-BR 5 LAS-INPE-MCT-BR |
Afiliação | 1 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, Laboratório Associado de Sensores e Materiais (INPE.LAS) 2 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, Laboratório Associado de Sensores e Materiais (INPE.LAS) 3 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, Laboratório Associado de Sensores e Materiais (INPE.LAS) 4 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, Laboratório Associado de Sensores e Materiais (INPE.LAS) 5 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) |
Nome do Evento | Encontro Nacional de Física da Matéria Condensada, 29. |
Data | 2006-05-09 |
Título do Livro | Anais |
Tipo Terciário | Posters |
Histórico (UTC) | 2006-07-31 17:37:01 :: simone -> administrator :: 2006-11-09 20:08:12 :: administrator -> simone :: 2006-12-06 12:33:23 :: simone -> administrator :: 2018-06-05 01:16:53 :: administrator -> marciana :: 2006 |
|
3. Conteúdo e estrutura | |
É a matriz ou uma cópia? | é a matriz |
Estágio do Conteúdo | concluido |
Transferível | 1 |
Tipo do Conteúdo | External Contribution |
Resumo | Amorphous hydrogenated carbon films (a-C:H) coatings have attracted significant attention recently owing to their desirable properties. These coatings have very attractive tribological properties such as low friction, high hardness, chemical inertness, and high wear resistance. In order to overcome the high residual stress and low adherence of these films onto metal substrates, a thin amorphous silicon interlayer was deposited as interface. Amorphous silicon and a-C:H films were grown by using a pulsed plasma by PECVD method. Silane and methane atmospheres were used, respectively. The chemical composition and atomic density of the a-C:H films were determined by ion beam analysis. The film microstructure was studied by means of Raman scattering spectroscopy. The total stress was determined through the measurement of the substrate curvature by a profilometer, while micro-indentation experiments provided the film hardness. The friction coefficient and critical load were evaluated by using a tribometer. The results showed that the use of the amorphous silicon interlayer allowed the a-C:H film deposition onto metal substrates with good adhesion, low compressive stress and high hardness. The composition, the microstructure, and the mechanical properties of the films were strongly dependent on the self-bias voltages. The tests confirmed the intensity of the ion bombardment importance during film growth on the mechanical properties of the films. |
Área | FISMAT |
Arranjo | urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAS > Adherent a-C:H coating... |
Conteúdo da Pasta doc | não têm arquivos |
Conteúdo da Pasta source | não têm arquivos |
Conteúdo da Pasta agreement | não têm arquivos |
|
4. Condições de acesso e uso | |
Idioma | pt |
Grupo de Usuários | administrator simone administrator |
Visibilidade | shown |
Permissão de Leitura | allow from all |
|
5. Fontes relacionadas | |
Unidades Imediatamente Superiores | 8JMKD3MGPCW/3ESR3H2 |
Acervo Hospedeiro | sid.inpe.br/banon/2003/08.15.17.40 |
|
6. Notas | |
Campos Vazios | archivingpolicy archivist callnumber conferencelocation copyholder copyright creatorhistory descriptionlevel dissemination documentstage doi e-mailaddress edition editor electronicmailaddress format identifier isbn issn keywords label lineage mark mirrorrepository nextedition notes numberoffiles numberofvolumes orcid organization pages parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project publisher publisheraddress readergroup resumeid rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarymark serieseditor session shorttitle size sponsor subject targetfile tertiarymark type url versiontype volume |
|
7. Controle da descrição | |
e-Mail (login) | marciana |
atualizar | |
|